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製品概要
真空また不活性ガス雰囲気中において、200mmまたは300mmMRAMウェハーを磁場中アニールする装置です。
製品の特長
- 1Tesla永久磁石による磁場印加
磁場強度 1Tesla +/-3%
スキュー角 +/- 1.0º以内
- 最大50枚処理
- 石英炉芯管を使用
- 常用温度：150ºC〜400ºC（最大500ºC）
- 縦型3ゾーン炉での高温度均一性
ウェハー面内 +/-1.0ºC以内
50枚ウエハー間 +/-1.0ºC以内
- 7×10-4Pa以下の圧力での高真空アニール
- 自動ウェハー搬送システム
- 2時間Soakのアニール処理において
11枚/hのスループット
- クリンエアフローによる高クリーン対応
- SEMI S2，S8等に準拠した安全対応
- SECS/GEM準拠のネットワーク対応
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