技術・製品紹介　磁気ヘッド関連設備　株式会社フューテックファーネス

技術・製品紹介


5Tesla 磁場中真空熱処理炉

	製品概要超伝導磁石により5Teslaの磁場を印加して、真空中もしくは不活性ガス雰囲気の石英製炉芯管内内にて、8インチまでのAITiC基板上に形成されたGMRおよびTMR薄膜の熱処理を行うための炉です。製品の特長 5Tesla超伝導磁石による磁場印加磁場強度　5Tesla +/-3% スキュー角　+/- 1.0º以内最大 25 枚処理石英炉芯管を使用常用温度：150ºC～400ºC（最大500ºC）横型3ゾーン炉での高温度均一性ウェハー面内 +/- 2.0ºC以内 25 枚ウエハー間 +/- 2.0ºC以内昇温速度：0～5ºC/分降温速度：300ºCから80ºCまで真空中で3時間以下高真空：7x10-5　Pa以下基板サイズ：最大8インチクリンエアフローによる高クリーン対応 SEMI　S2，S8等に準拠した安全対応 SECS/GEM準拠のネットワーク対応


R&D用 5Tesla磁場中真空熱処理炉

	製品概要小型の超伝導磁石を使って５Ｔまでの磁場中において、磁性材料や磁気デバイスを磁場中アニールする開発用磁場中アニール装置。製品の特長サンプル処理サイズ　2-6インチ径処理温度常用 200～550ºC、最大600ºC 温度均一性 +/- 2ºC以内磁場印加方向基板面内または垂直方向真空(1×10-3Paレベル）または不活性ガス雰囲気超伝導磁石による磁場磁場強度　5Tesla+/-3％スキュー角　+/-1.5deg


回転磁場中真空熱処理炉

	製品概要真空中もしくは不活性ガス雰囲気の石英製炉芯管内で磁場をかけながらAITiC基板上に形成されたMR,GMR,TMR薄膜の熱処理を行うための炉です。製品の特長 3ゾーンヒーターを有する縦型炉石英炉芯管を使用・常用温度：150ºC～400ºC（最大500ºC）昇温速度：0～5ºC/分降温速度：300ºCから80ºCまで真空中で5時間以下冷却ガスとして窒素、アルゴン使用により2.5～3時間以下 3：3カスケード温度制御温度均一性±0.5ºC以下（全基板中心） ±2.0ºC以下（全基板、各基板上5点） ±0.5ºC以下（温度安定性）高真空：7x10-5 Pa以下不活性ガス雰囲気：酸素濃度2ppm以下量産性：最大40枚同時処理可能基板サイズ：最大8インチ強磁場対応可能：1.5Tまでは常伝導電磁石にて対応可能 1.0T以上では超伝導電磁石にて対応


高温GMR測定設備

	製品概要真空熱処理中にスピンバルブ薄膜のGMR特性を4端子測定可能なシステムです。製品の特長同時に3枚の基板測定が可能温度は室温から最大400ºCまで測定可能特殊な線材を使用することで最大600ºCまで可能マイナーループ測定は±0⇔±200Oe（Max）メジャーループ測定は±電磁石最大磁場まで可能全自動でEasy Axis、Hard Axisを求める


レジストハードベーク炉

	製品概要 MR,GMR,TMR磁気ヘッド製造過程で磁場中においてレジストハードベークする装置。製品の特長真空中もしくは雰囲気下でのベーキングが可能石英炉芯管を使用することで清浄な環境が得られる。定期的な炉芯管内洗浄が可能であって、清浄な雰囲気が常時得られる。


着磁装置

	製品概要電磁石による磁場でHGAを着磁処理する装置。


ガラス線引炉

	製品概要ガラス原料の溶解撹拌から溶解炉及び線引き補助炉の最適温度条件設定まで全自動操作が可能溶解したガラスは、補助炉内で最適粘度を有するプリフォームを形成し下部のローラーで線引きされる。レーザー測定器により線経を測定し、フィードバックをかけることで線引きローラーの回転速度を制御し、設定した線経の±10％以内の精度で連続的に線引きが可能です。