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露点制御付雰囲気熱処理炉 |
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製品概要
MLCC焼成用雰囲気制御焼成装置。
製品の特長
- N2,H2ガスの流量を独立プログラム制御が可能であって任意に混合比率を可変する事ができる。
- 混合ガスの一部を加湿し、乾燥ガスと混合比を制御しながら流すことで-20ºCから-50ºCまで露点を制御できる。
- 高露点に制御された還元ガス中の微量な酸素濃度を測定することが可能。
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高真空雰囲気炉 |
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製品概要
各種電子材料、部品用高真空熱処理装置。
製品の特長
- クライオポンプ、水トラップ付ターボ分子ポンプを使用して高速で高真空を得る事が可能
- ゴールドファーネスを使用することで、急熱、急冷が可能であり、クリーンルーム内での使用も可能
- 真空から雰囲気ガス（N2,Ar,H2,O2等）導入、昇温から冷却まで全自動で操作が可能
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半導体デバイス拡散炉 |
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製品概要
200ｍｍ半導体プロセス用縦型拡散炉。
製品の特長
- 高い温度均一性を有する拡散炉です
- 真空、雰囲気に対応可能であって、すべてのプロセスを全自動で制御可能
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大型ホットプレス（2チャンバー1プレス方式） |
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製品概要
光メディア用スパッタリングターゲットを製造するホットプレス装置。
製品の特長
- 光メディア用ターゲット材製造用ホットプレス
- 最大8インチ径、300トンまでの実績
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